在功能薄膜、光学镀膜、半导体器件及装饰涂层等领域，磁控溅射技术因其膜层致密、附着力强、可镀材料广泛等优势，成为科研与生产中应用广泛的物理气相沉积方法之一。北京德仪天力科技发展有限公司推出的DE700型pvd镀膜设备，正是为满足从实验室研发到中试验证、再到小批量量产的全链条需求而设计的一款高性能设备。
一、面向未来的电源架构
DE700 pvd镀膜设备突出的特点是其电源系统的开放性。设备标准配置直流（DC）、脉冲直流（Pulse DC）和射频（RF）电源，能够覆盖绝大多数导电靶材和绝缘靶材的溅射需求。更值得一提的是，该系统支持HiPIMS高功率脉冲磁控溅射电源接入，让用户可以开展高离化率、高致密性的先进薄膜工艺研究。这种灵活的电源组合，使设备在金属膜、合金膜、氮化物/氧化物介质膜等各类材料的沉积中都游刃有余。
二、精准可控的沉积环境
为保证薄膜质量，设备提供了高真空溅射环境，有效减少残余气体对膜层的污染。腔体内可安装多个溅射源，支持多靶材同时或轮换工作，配合精准可调的靶基距（溅射距离），用户可根据不同靶材特性快速优化沉积参数。无论是单层薄膜、多层复合膜，还是通过共溅射制备合金薄膜，或是通入反应气体进行反应溅射，DE700都能提供稳定的工艺窗口。
三、智能化的样品处理与温控系统
设备配备大尺寸样品台，支持批量样品同时镀膜，显著提高产出效率。样品台具备加热和低温冷却双功能，可满足从室温到高温、以及需要冷却散热的不同基片温度要求。此外，可选配LOAD LOCK全自动送样模块，在不破坏主真空室气氛的前提下快速更换样品，特别适合需要频繁切换工艺或连续生产的场景。
四、优异的薄膜性能与扩展能力
DE700沉积的薄膜具有优异的厚度均匀性和批次间重复性，镀膜速率和膜厚控制精度均达到较高水平。薄膜与基底的附着力强，不易脱落。如对膜层质量有更高要求，还可选配离子束清洗或离子束辅助沉积装置，通过离子束轰击实现基片表面清洁或膜层致密化，进一步提升成膜品质。
五、全自动智能控制，降低操作门槛
设备采用PLC与PC协同的全自动智能控制系统，用户可在电脑端完成工艺参数设定、程序编辑、数据记录与曲线监控。真空抽气、电源切换、气体流量、样品台转动等环节均可自动执行，大幅减少人为误差，确保不同批次、不同操作人员下都能获得一致的镀膜结果。
六、广泛的应用适应性
DE700在材料体系上兼容金属（如铝、铜、钛、铬等）、半导体（如硅、铟锡氧化物等）以及各类介质材料（如氧化硅、氮化硅、氧化钛等）。工艺上可进行多层顺序溅射、多靶共溅射（制备合金膜）以及反应溅射（制备化合物膜）。因此，该设备不仅适用于高校、科研院所的材料探索，也适合企业在光电、微电子、表面处理等领域的工艺开发与试产。
七、紧凑设计与可靠性能
主机结构紧凑，占地面积小，同时保证了维护便利性。整机经过严格测试，运行稳定可靠，配合专业的技术支持团队，为用户提供从安装调试到工艺优化的服务。
DE700型pvd镀膜设备以灵活的配置、智能化的操作和稳定的性能，为您的薄膜研发与生产提供坚实保障。
