在国产替代的大背景下，北京德仪天力科技发展有限公司作为国内专业的真空镀膜设备制造商，推出了覆盖研发、中试到量产全场景的DE系列电子束蒸镀系统。公司核心产品涵盖磁控溅射、电子束蒸镀及热阻蒸发等多种薄膜沉积设备，广泛应用于半导体、微电子、纳米技术、超导、量子科技、数据存储及生物薄膜等前沿领域。
一、DE400DHL：高真空单源电子束蒸发镀膜系统
DE400DHL配置一个多坩埚电子束蒸发源，是DE系列中应用广泛的通用型电子束蒸发镀膜系统。
核心特点：高真空蒸镀环境（极限真空度3×10⁻⁸Torr），样品可高温加热、低温冷却。系统拥有原子级别的控膜能力，膜厚分辨率0.1Å，蒸发速率分辨率0.01Å/s。基片尺寸可选2英寸至12英寸，膜厚均匀性优于±3%。
工艺能力：可沉积金属、半导体、介质材料；支持单层、多层薄膜制备；支持LIFT-OFF工艺蒸镀；支持低维材料制备。可选离子束清洗或辅助沉积、RF等离子体清洗；可选LOAD LOCK全自动送样。适用场景覆盖研发、中试及量产。
二、DE400DUL：超高真空电子束蒸发镀膜系统
DE400DUL在DE400DHL的基础上将真空环境提升至超高真空级别，专为对薄膜纯度有更高要求的应用场景设计。
超高真空环境显著降低了残余气体分子对薄膜的污染，是获得高纯度薄膜的必要条件。系统配备LOAD LOCK全自动送样和PLC+PC全自动控制。可沉积金属、半导体、介质材料，支持单层、多层薄膜、LIFT-OFF工艺蒸镀及低维材料制备。适用场景为研发和中试。北京大学的集成电路学院曾采购该型号设备用于科研工作。
三、DE400P：中试与量产专用电子束蒸镀机
DE400P定位为中试与量产专用设备，可满足批量生产及中试阶段的镀膜需求。
设备定位：批量样品蒸镀，适配中试及量产场景。配备电子束蒸发源或热阻蒸发源，用户可根据材料和工艺需求灵活选择蒸发方式。
主要技术指标：极限真空压力<5×10⁻⁸Torr；大气抽至5×10⁻⁷Torr时间<40分钟；基片尺寸可选2英寸至12英寸；片内膜厚均匀性≤±3%，片间膜厚重复性≤±2%。
工艺能力：可沉积金属、半导体、介质材料；支持单层、多层薄膜沉积；支持LIFT-OFF工艺蒸镀；可用于低维材料制备。可选离子束清洗或辅助沉积；PLC+PC全自动控制。
四、DE500CL/DE600CL：双源与多源共蒸镀膜系统
DE500CL配置两个电子束蒸发源，支持两种材料的共蒸发沉积。DE600CL则可配置三个、四个或六个电子束蒸发源。
多源配置使研究者能够在同一批次实验中依次沉积多种材料，无需中断真空环境即可完成从打底层到功能层的完整膜系制备。可沉积金属、半导体、介质材料，支持单层、多层膜及共蒸合金膜。极限真空度3×10??Torr，基片尺寸2至12英寸可选。适用场景覆盖研发、中试或量产。
五、选型建议
选型逻辑：常规镀膜与中试量产可优先考虑DE400P，覆盖从工艺验证到批量生产的全流程；超高真空高纯镀膜场景DE400DUL更为合适；合金薄膜与多层膜制备DE500CL的双源配置支持共蒸发沉积；多材料复杂膜系DE600CL的多源配置提供更大的工艺灵活性。
德仪天力的DE系列产品始终以客户需求为导向，提供高性能、高稳定性、高定制化的电子束蒸镀系统解决方案，能够满足从实验室研发到中试量产的全链条需求。
