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多电子枪蒸发镀膜系统

【简介】DE600CL 多电子枪蒸发镀膜系统,优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性,高精度镀膜速率和膜厚控制。

产品型号:DE600CL
更新时间:2026-03-20
厂商性质:生产厂家
访问量:44
产品介绍
  DE600CL 多电子枪蒸发镀膜系统配置三(四或六)个电子束蒸发源,可在基片共蒸发金属、半导体或介质材料。
  1、核心配置
  - 电子枪:三个(或四个)(或六个)
  - 镀膜环境:高真空或超高真空
  - 样品处理:可高温加热、可低温冷却
  - 镀膜性能:优质薄膜质量,具备良好的膜厚均匀性和重复性;高精度镀膜速率和膜厚控制
  2、可选功能
  - 送样功能:可选LOAD LOCK,全自动送样
  - 清洗功能:可选离子束清洗或辅助沉积、可选RF等离子体清洗
  3、控制方式
  - PLC+PC全自动控制
  4、主要技术指标
  - 极限真空度:3E-8Torr
  - 基片尺寸:可选:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
  - 膜厚均匀性:优于+/-3%
  - 蒸发速率分辨率0.01 A/s
  - 膜厚分辨率0.1A
  4、应用范围
  - 可沉积材料:金属、半导体、介质材料
  - 镀膜类型:可用于沉积单层、多层膜;可共蒸合金膜;可进行LIFT-OFF工艺蒸镀
  - 其他应用:低维材料制备
  - 适用场景:研发和中试或量产

  多电子枪蒸发镀膜系统

 

 
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