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高真空多腔室薄膜沉积系统

【简介】DE3000 高真空多腔室薄膜沉积系统,全机PLC+PC全自动控制,适于Fab百级净化间、无人车间。

产品型号:DE3000
更新时间:2026-03-20
厂商性质:生产厂家
访问量:49
产品介绍
  DE3000 高真空多腔室薄膜沉积系统
  1、核心配置
  - 多个工艺腔室,支持高真空或超高真空环境
  - LOAD LOCK(负载锁)
  - 样品自动传输,可配备EFEM
  - 全机PLC+PC全自动控制
  - 适于Fab百级净化间、无人车间
  2、工艺能力
  - 磁控溅射
  - 电子束蒸发
  - 热阻蒸发
  - ALD工艺
  - 离子束辅助沉积
  - 等离子体清洗
  - 样品除气
  - 氧化工艺
  3、应用与性能
  - 应用场景:用于研发、中试或量产
  - 可沉积材料:金属、半导体、介质材料
  - 可沉积膜层:单层膜、多层膜、合金膜
  - 性能优势:优质薄膜质量,良好的膜厚均匀性和重复性;高精度镀膜速率和膜厚控制

  高真空多腔室薄膜沉积系统

 

 
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