【简介】DE600DL纳米膜层磁控溅射系统是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台，配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料。设备可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选溅射楔形膜等。

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