DE5000 多腔体磁控溅射系统是北京德仪天力科技发展有限公司推出的一款面向科研、中试及量产的材料制备设备。

DE700PVD 中试-量产 磁控溅射系统，溅射距离可调，直流、脉冲直流、射频电源、HiPIMS电源。

DE600DL纳米膜层磁控溅射系统是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台，配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料。设备可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选溅射楔形膜等。

DE500DL纳米膜层磁控溅射系统配备多个磁控溅射源，可沉积金属、半导体、介质材料，可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜、反应溅射、可选溅射楔形膜等，是材料和薄膜沉积研发和中试的理想平台。