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中试-量产 磁控溅射系统

【简介】DE700PVD 中试-量产 磁控溅射系统,溅射距离可调,直流、脉冲直流、射频电源、HiPIMS电源。

产品型号:DE700PVD
更新时间:2026-03-20
厂商性质:生产厂家
访问量:52
产品介绍
  DE700PVD 中试-量产 磁控溅射系统

  中试-量产 磁控溅射系统

  1、设备核心定位

  用于中试和量产,可实现高效、高精度薄膜沉积
  2、核心工作环境
  - 高真空溅射环境
  3、溅射相关配置
  - 多个溅射源
  - 溅射距离可调
  - 支持多种电源:直流、脉冲直流、射频电源、HiPIMS电源
  - 可做反应溅射
  4、样品处理能力
  - 批量样品溅镀
  - 样品可加热
  - 样品可低温冷却
  5、薄膜性能优势
  - 优质薄膜质量,具备良好的膜厚均匀性和重复性
  - 高精度镀膜速率和膜厚控制
  - 强薄膜附着力
  6、可选配置
  - 可选LOAD LOCK,实现全自动送样
  - 可选离子束清洗或辅助沉积
  7、控制方式
  - PLC+PC全自动控制
  8、沉积材料与功能
  - 可沉积金属、半导体、介质材料
  - 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜
  9、镀膜室主要技术指
  - 极限真空压力:<9E-8Torr
  - 基片尺寸:可选:3英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
  - 可选基片加热至:600℃
  - 片内膜厚均匀性:≤+/-3%
  - 片间膜厚重复性:≤+/-2%
  10、装片能力

  中试-量产 磁控溅射系统

 

 

 

 
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