DE5000 多腔体磁控溅射系统是由北京德仪天力科技发展有限公司推出的一款面向科研、中试及量产等多层次需求的高档材料制备设备。该系统采用模块化多腔室设计，集成先进的溅射技术与自动化控制，能够沉积金属、半导体、介质等多种薄膜材料，广泛应用于半导体、光学、磁性材料、超导薄膜及表面工程等领域。
DE5000特点
- 多个溅射腔室
- 高真空溅射环境
- 溅射室单源或多源
- 样品可高温加热或低温冷却
- 优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性
- 高精度镀膜速率和膜厚控制
- 超强薄膜附着力
- LOAD LOCK
- 等离子体清洗
- 除气处理
- 样品自动传送
- PLC+PC全自动控制
- 可配备EFEM用于Fab百级净化间、无人车间
- 可做反应溅射
- 用于研发和中试或量产
- 可沉积金属、半导体、介质材料
- 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜
DE5000 多腔体磁控溅射系统集高真空、多源配置、宽温区样品台、HiPIMS技术、全自动传送与PLC+PC控制于一体，兼顾研发灵活性与量产可靠性。其可选的EFEM模块更使其能够无缝对接百级净化车间与无人化工厂，是高校、研究院所及高新技术企业开展先进薄膜材料研究与生产的理想平台。
产品介绍
