pvd磁控溅射镀膜机溅射距离可调，直流、脉冲直流、射频电源、HiPIMS电源。

磁控溅射PVD是一款面向科研中试及工业化量产的PVD磁控溅射镀膜系统，具备高真空溅射环境、多溅射源配置以及溅射距离精准可调的结构设计，确保工艺灵活性与沉积稳定性。

磁控溅射PVD镀膜设备支持直流、脉冲直流、射频电源；兼容HiPIMS高功率脉冲磁控溅射电源。

pvd磁控溅射镀膜机溅射距离可调，直流、脉冲直流、射频电源、HiPIMS电源。