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磁控溅射PVD

【简介】磁控溅射PVD镀膜设备支持直流、脉冲直流、射频电源;兼容HiPIMS高功率脉冲磁控溅射电源。

产品型号:
更新时间:2026-03-20
厂商性质:生产厂家
访问量:54
产品介绍
  pvd磁控溅射镀膜机
  磁控溅射PVD设备特点
  - 高真空溅射环境
  - 多个溅射源
  - 溅射距离可调
  - 直流、脉冲直流、射频电源、HiPIMS电源
  - 批量样品溅镀
  - 样品可加热
  - 样品可低温冷却
  - 优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性
  - 高精度镀膜速率和膜厚控制
  - 超强薄膜附着力
  - 可选LOAD LOCK,全自动送样
  - 可选离子束清洗或辅助沉积
  - PLC+PC全自动控制
  - 可沉积金属、半导体、介质材料.
  - 可用于溅射多层薄膜、共溅合金薄膜
  - 可做反应溅射
  - 用于中试和量产
 
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