DE700 pvd磁控溅射镀膜机

【简介】pvd磁控溅射镀膜机溅射距离可调，直流、脉冲直流、射频电源、HiPIMS电源。

Name: DE700 pvd磁控溅射镀膜机
Availability: InStock

产品型号：

更新时间：2026-04-09

厂商性质：生产厂家

访问量：30

产品咨询联系我们

产品介绍

　　PVD磁控溅射镀膜设备产品介绍

　　1、本设备是一款高性能PVD磁控溅射镀膜机，专为满足从科研中试到工业化量产的多场景需求而设计。它具备高真空溅射环境、多溅射源配置以及溅射距离精准可调的结构特性，确保镀膜过程的稳定与灵活。

　　2、电源系统方面，设备兼容直流、脉冲直流、射频电源，并支持HiPIMS高功率脉冲磁控溅射电源，可适应不同材料与工艺要求。

　　3、样品处理能力突出，支持批量样品溅镀，并可选配LOAD LOCK全自动送样系统。样品台可实现加热与低温冷却，满足不同沉积温度需求。

　　4、在薄膜性能上，设备能够制备高质量的薄膜，具备优异的膜厚均匀性与重复性，镀膜速率和膜厚可实现高精度控制，同时保证很强的薄膜附着力。

　　5、此外，用户可选配离子束清洗或离子束辅助沉积功能，进一步提升膜层质量。控制系统采用PLC+PC全自动智能控制，操作简便、工艺稳定。

　　6、材料与工艺适配广泛，可沉积金属、半导体、介质材料，支持多层薄膜溅射、共溅合金薄膜，并能够实现反应溅射工艺。

　　7、该设备既适用于科研中试阶段的工艺开发，也可直接用于工业化量产，是一款兼具灵活性与生产能力的PVD镀膜解决方案。