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pvd磁控溅射镀膜机

【简介】pvd磁控溅射镀膜机溅射距离可调,直流、脉冲直流、射频电源、HiPIMS电源。

产品型号:DE700
更新时间:2026-03-20
厂商性质:生产厂家
访问量:33
产品介绍
  pvd磁控溅射镀膜机
  pvd磁控溅射镀膜机/pvd镀膜设备核心功能参数
  1、设备环境与结构
  - 高真空溅射环境
  - 多个溅射源配置
  - 溅射距离精准可调
  2、电源系统
  - 支持直流、脉冲直流、射频电源
  - 兼容HiPIMS高功率脉冲磁控溅射电源
  3、样品处理能力
  - 支持批量样品溅镀
  - 样品可加热 / 低温冷却
  - 可选LOAD LOCK全自动送样
  4、薄膜性能优势
  - 优质薄膜质量,膜厚均匀性与重复性优异
  - 高精度镀膜速率与膜厚控制
  - 超强薄膜附着力
  5、选配功能
  - 可选离子束清洗 / 离子束辅助沉积
  6、控制系统
  - PLC+PC 全自动智能控制
  7、材料与工艺适配
  - 可沉积金属、半导体、介质材料
  - 支持多层薄膜溅射、共溅合金薄膜
  - 可实现反应溅射工艺
  8、应用场景
  - 适用于科研中试及工业化量产
 
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